PANDORA 多功能臺式原子層沉積系統(tǒng)【ALD 包覆改性方案】

很多人相信，潘多拉的魔盒還埋藏著尚未開發(fā)的寶物——希望！

正是基于對于新技術應用的美好愿景，Forge Nano 開發(fā)了 PANDORA 臺式原子層沉積系統(tǒng)， 這一工具巧妙地將粉末原子層沉積技術和平面原子層沉積薄膜技術結合。使用者可輕易地在粉末與平面樣品之間切換，而不用擔心影響研究效率。

產品規(guī)格【ALD 包覆改性方案】

1. 前驅體通道：2-6

2. 連續(xù)流 / 靜態(tài)流兼容

3. 反應腔：100ml 粉末腔 / 10×10cm 平面

4. 反應腔結構：旋轉式

5. 反應腔溫度：最高 200℃

6. 配件：In-situ QCM，等離子發(fā)生器，臭氧發(fā)生器，在線式氣體分析系統(tǒng)，沖壓輔助裝置

7. 支持樣品：粉末，纖維，平面樣，器件，藥物

產品特點

PANDORA 是高度集成的臺式原子層沉積系統(tǒng)，可擺放在實驗室的任意角落，采用旋轉式反應腔實現對粉末材料的分散，有更高的兼容性。對于平面樣品，則可快速插入平面反應臺，實現樣品的切換。PANDORA 高度集成的特點提高了使用效率，使用者甚至在安裝的第一天便可以開始 ALD 實驗。

實時監(jiān)測

PANDORA 也配備了在線分析系統(tǒng)，可以對前驅體與副產物進行實時監(jiān)測，從而進行沉積工藝改良。

In-situ QCM

ALD 是微量的沉積方式，故常規(guī)手段無法測量薄膜的質量，因此 PANDORA 采用石英微天平可以實時監(jiān)測材料的質量變化，幫助研究者獲得更高質量的薄膜。

反應觀察窗

研究者可通過窗口實時觀察粉末在腔室中的運轉情況

符合 cGMP 要求

PANDORA 可以應用于藥物的表面改性及包覆，從而提升藥物的物理及化學性能。

應用

對于學術研究，液相法是進行粉末表面包覆改性的重要方法，但對于大多數研究者而言，尋找合適的工藝以及普適性較高的方案是費時耗力的工作，且液相法會造成大量的原料浪費，同時并不能實現*均勻的包覆。包覆層會出現較多的缺陷或顆粒團聚，影響材料最終的性能。而對于敏感性較高的材料，如鋰電電極粉末，液相法可能對材料性能產生不可逆的影響。

ALD 是自限制性的薄膜沉積技術，可以在粉末材料表面形成均勻的包覆，即便是孔隙率高的多孔結構，ALD 也有較好的均一性。